中國據報已成功量產自主研發的浸沒式深紫外（DUV）光刻機，由上海愛晟納電子技術集團牽頭生產。今年計劃交付約5台，2027年產量可望增至20台以上，主要供應中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲。此舉標誌中國在減少對外依賴、突破美國及盟友技術封鎖方面取得重要進展。
DUV光刻機雖不及極紫外（EUV）先進，但可支援7納米以上芯片製造，並透過多重曝光工藝延伸至更高階製程。長期由荷蘭ASML壟斷的市場，因美國限制EUV及先進DUV出口，中國國產替代的量產被視為戰略防禦。
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